大家好，今天小編關(guān)注到一個比較有意思的話題，就是關(guān)于合力叉車全車電路圖的問題，于是小編就整理了1個相關(guān)介紹合力叉車全車電路圖的解答，讓我們一起看看吧。

關(guān)于光刻機(jī)，中國需要做哪些方面的突破？

回答這個問題，不如先看下當(dāng)前中國光刻機(jī)的現(xiàn)狀(2018-2020)；我國光刻機(jī)在不斷發(fā)展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機(jī)市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

2018年光刻機(jī)制造商的銷售情況：

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨374臺，較2017年的294臺增加80臺，增長27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機(jī)總營收118.92億歐元，較2017年增長25.21%。從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來看，全年共出貨134臺。其中ASML出貨120臺，占有9成的市場。

2018年ASML光刻機(jī)出貨224臺，營收達(dá)82.76億歐元，較2017年成長35.74%。其中EUV光刻機(jī)營收達(dá)18.86億歐元，較2017年增加7.85億歐元。EUV光刻機(jī)出貨18臺，較2017年增加7臺；ArFi光刻機(jī)出貨86臺，較2017年增加10臺；ArF光刻機(jī)出貨16臺，較2017年增加2臺；KrF光刻機(jī)出貨78臺，增加7臺；i-line光刻機(jī)出貨26臺，和2017年持平。2018年單臺EUV平均售價1.04億歐元，較2017年單臺平均售價增長4%。而在2018年一季度和第四季的售價更是高達(dá)1.16億歐元。目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺積電TSMC、SK海力士SK Hynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。2018年中國已經(jīng)進(jìn)口多臺ArFi光刻機(jī)，包括長江存儲、華力微二期。

國際市場上傲視群雄的是荷蘭【ASML】

目前我國最有名的光刻機(jī)制造商為【上海微電子】

ASMl成功的原因有哪些呢？資本，技術(shù)，市場這些都是ASML成功的核心要素。制造光刻機(jī)的難點(diǎn)在于很多產(chǎn)品零部件都需要很高的精度與技術(shù)門檻，如果放到一個國家來研制的話，可能性極小。光刻機(jī)現(xiàn)在被分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)這兩種不同的方式，而真正具有難度的就是這個前道光刻機(jī)的制造技術(shù)，即便有圖紙也很難制造出來。光刻機(jī)的難度主要體現(xiàn)在底片的制造，是用涂滿光敏膠的硅片制作而成，這個工藝就非常的復(fù)雜，需要認(rèn)為重復(fù)幾十遍才可以制造而成。還有就是光刻機(jī)的鏡頭，據(jù)說是使用蔡司的技術(shù)打造而成的，而且所需要的時間都是幾十年或者上百年才可以完成。這些還不是真正最難的部分，而真正最難的部分還是屬于光源系統(tǒng)的來源，這也被稱為整個光學(xué)工業(yè)中的明珠所在。研發(fā)過程是沒有什么捷徑可走的，精度只能一步步提升。沒有一微米的基礎(chǔ)，就不可能造90納米的設(shè)備，沒有90納米的基礎(chǔ)，就不可能造45納米的設(shè)備。現(xiàn)在ASML的超高工藝精度，這個水平不是天上掉下來的，而是別人幾十年一步一步逐漸積累出來的。

ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，最快會于2021年面世?，F(xiàn)在ASML銷售的光刻機(jī)主要為NXE:3400B和改進(jìn)型的NXE:3400C，結(jié)構(gòu)上相似。差別在于NXE:3400C采用模塊化設(shè)計，將平均維護(hù)時間從48小時縮短到8-10小時；NXE:3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機(jī)屬于第一代，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0.33。EXE:5000系列EUV光刻機(jī)主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實際，EXE:5000系列EUV光刻機(jī)的研發(fā)極為重要。不過最快可能也要于2023年或者2024年上市。

總結(jié)下，EUV技術(shù)實質(zhì)上是通過提升技術(shù)成本來平衡工序成本和周期成本，EUV主要是從7nm開始，目前國內(nèi)暫時沒有這項技術(shù)的應(yīng)用，國內(nèi)集成電路某些特定領(lǐng)域還較為落后，尚未達(dá)到支撐研發(fā)EUV技術(shù)的先進(jìn)水平。EUV產(chǎn)業(yè)化過程中最大的挑戰(zhàn)主要來自于光源和持續(xù)生產(chǎn)率，除此之外，耗電量和曝光速度也還需要征服和挑戰(zhàn)！

盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是從長遠(yuǎn)角度來看，中國持續(xù)發(fā)展EUV技術(shù)還是非常必要的！

我是喜馬丑牛，我來試著回答。

光刻機(jī)是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子以及機(jī)械工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)幾個國家可以掌握。

這個領(lǐng)域的頂尖玩家數(shù)量很少，包括荷蘭ASML，日本NIKON和CANON等，幾乎上把控了整個高端的光刻機(jī)市場。

光刻機(jī)制造的難點(diǎn)在于:

1.光學(xué)器件。極高精度和極高穩(wěn)定度的光學(xué)器件是光刻機(jī)的核心部件，世界上只有少數(shù)幾家如蔡司等有能力制造，這些企業(yè)有相關(guān)專利的保護(hù)。

2.電子系統(tǒng)以及各種高精度傳感控制系統(tǒng)。這一領(lǐng)域是工業(yè)的眼睛和神經(jīng)，不僅是光刻機(jī)，幾乎整個工業(yè)領(lǐng)域都被西方品牌控制，高精尖的傳感控制系統(tǒng)很難在短期內(nèi)有大的突破。

3.精密制造。材料以及加工工藝的精度，基礎(chǔ)工業(yè)原件如軸承等的穩(wěn)定性和精度等都將決定光刻機(jī)整體的精度和穩(wěn)定性。

以上領(lǐng)域的突破不是一天兩天的事，也不是空喊口號就可以解決的，需要全社會沉靜下來，踏踏實實發(fā)展基礎(chǔ)科學(xué)和工業(yè)才有可能在將來的某一天制造出屬于我們自己的高精度光刻機(jī)。同時，相關(guān)專利也會是我們發(fā)展高端光刻機(jī)的制約，這一塊也需要相關(guān)學(xué)科做系統(tǒng)的研發(fā)和準(zhǔn)備。

到此，以上就是小編對于合力叉車全車電路圖的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于合力叉車全車電路圖的1點(diǎn)解答對大家有用。